Cibles de pulvérisation
Cibles de pulvérisation
Les cibles de pulvérisation sont des matériaux spécialisés utilisés pour le dépôt de couches minces dans diverses industries, y compris l'électronique, l'énergie et les textiles. Ces cibles peuvent être composées de différentes compositions élémentaires ou d'alliages, telles que des métaux purs ou des céramiques, et sont bombardées par des ions, ce qui provoque l'éjection d'atomes ou de molécules de leur surface. Ces particules se déposent ensuite sur un substrat pour créer un film mince et uniforme. Il existe différents types de cibles de pulvérisation, y compris des cibles planes ou rotatives et une gamme de matériaux, tels que l'or, l'argent, le titane et le tungstène. Leur sélection dépend de différents facteurs tels que les exigences de l'application, les propriétés des matériaux et la compatibilité avec le système de pulvérisation.
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Cible de pulvérisation d’aluminium, 76,2 mm (3,0 po) de diamètre x 3,18 mm (0,125 po) d’épaisseur, 99,999 % (base de métaux), Thermo Scientific Chemicals
CAS: 7429-90-5 Formule moléculaire: Al Poids moléculaire (g/mol): 26.98 Numéro MDL: MFCD00134029 Clé InChI: XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N Synonyme: aluminum,metal,powder,aluminio,metana,adom,alumina fibre,aluminum flake,dust,noral aluminum CID PubChem: 5359268 ChEBI: CHEBI:33629 Nom IUPAC: aluminium SMILES: [Al]
